UV-irradiation induced modification of PDMS films investigated by XPS and spectroscopic ellipsometry

X射线光电子能谱 椭圆偏振法 辐照 材料科学 折射率 结合能 化学工程 薄膜 分析化学(期刊) 化学 纳米技术 光电子学 色谱法 物理 工程类 核物理学
作者
B. Schnyder,Thomas Lippert,R. Kötz,Alexander Wokaun,Vera‐Maria Graubner,Oskar Nuyken
出处
期刊:Surface Science [Elsevier]
卷期号:532-535: 1067-1071 被引量:152
标识
DOI:10.1016/s0039-6028(03)00148-1
摘要

UV-irradiation (172 nm) induced changes of PDMS surfaces were investigated with X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and spectroscopic ellipsometry (SE). Both methods indicate the modification of the PDMS to a silica-like surface (SiO2). These conclusions could be drawn from the elemental composition determined by XPS and the binding energy shifts in the XPS spectra of the Si 2p and O 1s levels. Similarly the refractive index n determined with ellipsometry reaches a value close to the one of SiO2. Additionally, ellipsometry allows to monitor the decrease of the original film thickness with increasing UV-irradiation time.
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