Epitaxial N-type silicon solar cells with 20% efficiency

薄脆饼 外延 材料科学 光电子学 能量转换效率 太阳能电池 图层(电子) 开路电压 短路 电压 多孔硅 电气工程 纳米技术 工程类
作者
Nena Milenkovic,Marion Driesen,Bernd Steinhauser,Jan Benick,S. Lindekugel,Martin Hermle,S. Janz,Stefan Reber
标识
DOI:10.1109/pvsc.2016.7749408
摘要

Silicon wafers have still a significant contribution to the total cost of production for silicon solar cells. One cost driver when using classical wafering techniques is kerf loss. With the approach using porous silicon as a detachment layer and as a seed layer for epitaxy kerf losses can be avoided. In this work, solar cells with epitaxially grown n-type wafers are presented. The best EpiWafer-cell reaches an open circuit voltage of 657.5 mV, a short circuit current of 39.6 mA/cm 2 and a fill factor of 77%. The resulting energy conversion efficiency of 20% proves the high quality of this material.
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