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Electron and hole capture processes in Cu-doped glass exhibiting radiophotoluminescence

剂量计 辐照 材料科学 离子 兴奋剂 电子 饱和(图论) 放射化学 分析化学(期刊) 辐射 原子物理学 化学 光学 物理 核物理学 光电子学 冶金 数学 有机化学 组合数学 色谱法
作者
Ryo Hashikawa,Yuya Takada,Yusaku Nishi,A. Kinomura,Takeshi Saito,Arifumi Okada,Takashi Wakasugi,Kohei Kadono
出处
期刊:Journal of Physics: Condensed Matter [IOP Publishing]
卷期号:34 (2): 025701-025701 被引量:3
标识
DOI:10.1088/1361-648x/ac2fd5
摘要

Radiophotoluminescence (RPL) is a radiation effect, and materials exhibiting RPL can be used in dosimeters. In this study, we observed remarkable RPL in Cu-doped aluminoborosilicate and silica glasses upon their exposure to60Coγ-rays. The RPL intensity increased proportionally with the irradiation dose up to several hundreds of grays and then saturated beyond a certain dose level. An equation was derived theoretically to express the relationship between the RPL intensity and irradiation dose based on the RPL mechanism, in which copper ions, Cu2+and Cu+, capture electrons and holes, generated by the irradiation, respectively, resulting in a change in the valence. The equation fitted well with the experimental results, providing two parameters for the equation. These parameters are associated with the saturation dose level and sensitivity, which are important for the application of materials to dosimeters. These parameters were discussed based on electron and hole capture processes in the RPL mechanism.
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