Modified Hot-Zone Design for Large Diameter 4H-SiC Single Crystal Growth

材料科学 半最大全宽 Crystal(编程语言) GSM演进的增强数据速率 温度梯度 晶体生长 单晶 区域熔化 结晶学 复合材料 光电子学 合金 电信 物理 量子力学 化学 程序设计语言 计算机科学
作者
Jung‐Woo Choi,Jung Gyu Kim,Byung Kyu Jang,Sang Ki Ko,Myung Ok Kyun,Jung Doo Seo,Kap Ryeol Ku,Jeong Min Choi,Won Jae Lee
出处
期刊:Materials Science Forum 卷期号:963: 18-21 被引量:10
标识
DOI:10.4028/www.scientific.net/msf.963.18
摘要

6-inch 4H-SiC single crystal was grown with modified hot-zone design for large diameter crystal. The simulation data confirmed reduced temperature gradient between center and edge region of growing front, and actual growth experiment exhibited that SiC crystal with good quality was obtained with modified hot-zone design without any quality degradation in edge region of bulk crystal. Based on the mapping measurement of FWHM (Full width at half maximum) value in X-ray rocking curve, the crystal quality of SiC crystals from middle and top region of grown ingot was observed to be almost identical. Furthermore, various properties of SiC crystal grown with modified hot-zone design have been systematically investigated.
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