Output breakdown characteristics of amorphous InGaZnO thin-film transistors at high gate voltage

材料科学 薄膜晶体管 无定形固体 光电子学 饱和(图论) 阈值电压 晶体管 电场 排水诱导屏障降低 电压 电气工程 凝聚态物理 化学 复合材料 结晶学 物理 工程类 图层(电子) 组合数学 量子力学 数学
作者
Huan Yang,Tengyan Huang,Wengao Pan,Lei Lü,Shengdong Zhang
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:124 (9) 被引量:1
标识
DOI:10.1063/5.0188427
摘要

Output characteristics of top-gate amorphous InGaZnO thin-film transistors are investigated at high gate voltage. With the increasing drain voltage, an output breakdown crops up closely following a drastic uprush of drain current. Such dramatically elevated drain current derives from the self-heating (SH) effect-generated channel donors. Measured at different high gate voltages, the output breakdown occurs in either linear or saturation regime, respectively, corresponding to normally-on and normally-off transfer curve, while the SH-triggering powers are almost identical. The conductor-like channel originates from the SH-induced high donor population, while the disconnection between channel and drain is caused by a highly defective region near drain, where the hot-carrier damage is violently activated by the SH-induced high temperature and the high drain electric field in saturation regime.
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