Output breakdown characteristics of amorphous InGaZnO thin-film transistors at high gate voltage

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作者
Huan Yang,Tengyan Huang,Wengao Pan,Lei Lü,Shengdong Zhang
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:124 (9) 被引量:1
标识
DOI:10.1063/5.0188427
摘要

Output characteristics of top-gate amorphous InGaZnO thin-film transistors are investigated at high gate voltage. With the increasing drain voltage, an output breakdown crops up closely following a drastic uprush of drain current. Such dramatically elevated drain current derives from the self-heating (SH) effect-generated channel donors. Measured at different high gate voltages, the output breakdown occurs in either linear or saturation regime, respectively, corresponding to normally-on and normally-off transfer curve, while the SH-triggering powers are almost identical. The conductor-like channel originates from the SH-induced high donor population, while the disconnection between channel and drain is caused by a highly defective region near drain, where the hot-carrier damage is violently activated by the SH-induced high temperature and the high drain electric field in saturation regime.

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