15.7 A 32Mb RRAM in a 12nm FinFet Technology with a 0.0249μm2 Bit-Cell, a 3.2GB/S Read Throughput, a 10KCycle Write Endurance and a 10-Year Retention at 105°C

吞吐量 电阻随机存取存储器 计算机科学 位(键) 操作系统 计算机网络 电气工程 无线 工程类 电压
作者
Yi‐Cheng Huang,S. C. Liu,H. W. Chen,Hsin-Chang Feng,Chih-Feng Li,Chou-Ying Yang,Wei-Keng Chang,Chang-Feng Yang,Chun-Yu Wu,Yen-Cheng Lin,Tsung-Tse Yang,Chih-Yang Chang,Wen-Ting Chu,Harry Chuang,Yih Wang,Yu-Der Chih,Tsung-Yung Jonathan Chang
标识
DOI:10.1109/isscc49657.2024.10454367
摘要

Low-power wireless MCU devices for intelligent IoT applications are one of the key drivers for embedded non-volatile memory (eNVM) for technology nodes of 2xnm and beyond; in addition to high-performance advanced CMOS processes with excellent RF/analog devices, there is a need for high read throughput high-density embedded non-volatile memory to store CPU code as well as neural-network models for energy-efficient data-centric machine-learning edge computing. For this purpose, fully logic-compatible TMO-based resistive RAM (RRAM) is a promising candidate [1–3]. In this work, a 32Mb RRAM macro with $0.0249 \mu m^{2}$ bit cells is implemented using a 12nm ultra-low power FinFET technology. Several design solutions are also proposed to address key challenges, including a write-assist scheme to achieve high write endurance and data retention and a pipeline-read scheme for high read throughput. Silicon measurements show 10,000 write-cycle endurance, 10-year retention at $105^{\circ}\mathrm{C}$, and a 3.2GB/s read throughput.
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