Dendritic Polyphenol with an Improved Glass Transition Temperature for Microelectronic Applications

微电子 无定形固体 多酚 分子 抵抗 玻璃化转变 材料科学 电子束光刻 平版印刷术 纳米技术 高分子化学 光电子学 光化学 化学 有机化学 聚合物 抗氧化剂 图层(电子)
作者
Jeong-Seok Mun,Jihoon Woo,Yejin Ku,Hyun‐Taek Oh,Jin Hyun Lee,Jin‐Kyun Lee,Kanghyun Kim,Byeong‐Gyu Park,Sangsul Lee
出处
期刊:ACS materials letters [American Chemical Society]
卷期号:5 (4): 1164-1169 被引量:2
标识
DOI:10.1021/acsmaterialslett.2c01150
摘要

In this study, we report the synthesis of a dendritic polyphenol characterized by a high glass transition temperature (Tg), comparable to that of poly(4-hydroxystyrene). Although the molecule (DP8) was designed to have a molecular weight as low as 1169 g/mol with eight hydroxyl groups, it exhibited a Tg of ca. 160 °C along with a stable amorphous nature when prepared from the trityl chloride structural motif. The beneficial effect of its high Tg was revealed when DP8 was converted to an acid-labile derivative, DP8-tBOC, with tert-butoxycarbonyl (tBOC) protective moieties. Compared to its smaller counterpart based on six hydroxyl units, DP8-tBOC could survive at higher temperatures, with a slower acid diffusion rate under proton injection conditions. These characteristics enabled the formation of 130 nm thick, 50 nm wide patterns in a lithographic experiment using a focused electron beam. As a versatile building block, DP8 was also derivatized into a fluoroalkylated molecule, DP8-PPVE, which produced 50 nm-sized features under electron-beam lithographic conditions. These results demonstrate the strong potential of the low-molecular-weight, high-Tg DP8 molecule as an extreme UV resist platform for high-resolution microlithography.
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