Improvement of the ohmic characteristics of Pd contacts to p-type GaN using an Ag interlayer

欧姆接触 肖特基势垒 材料科学 价带 费米能级 大气温度范围 肖特基二极管 光电子学 凝聚态物理 化学 图层(电子) 纳米技术 带隙 电子 热力学 二极管 物理 量子力学
作者
June-O Song,Joon Seop Kwak,Tae‐Yeon Seong
出处
期刊:Semiconductor Science and Technology [IOP Publishing]
卷期号:21 (2): L7-L10 被引量:13
标识
DOI:10.1088/0268-1242/21/2/l01
摘要

We have investigated the addition effect of an Ag interlayer (2 nm) at the Pd and GaN interface on the ohmic behaviour of a single Pd contact (110 nm). The Ag layer is broken up into nano-dots (11–22 nm in size) when annealed at temperatures of 330–530 °C. It is shown that the use of the Ag interlayer is effective in widening the temperature range for the ohmic formation of the Pd contact and improving the adhesion of the Pd contact to GaN. The improved ohmic behaviours are attributed to the reduction of Schottky barrier heights due to the shift of the surface Fermi level towards the valence-band edge and the formation of Ag nano-dots at the Pd/GaN interfaces.

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