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Surface-dependent chemical properties of silicon nanowires: The acceleration of copper oxidation

纳米线 材料科学 衍射 化学工程 催化作用 化学反应 无机化学 纳米技术 化学 冶金 有机化学 光学 物理 工程类
作者
Fan Liao,Shanshan Liu,Mingwang Shao,Shuit‐Tong Lee
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:100 (9) 被引量:7
标识
DOI:10.1063/1.3691943
摘要

HF-treated silicon nanowires exhibited surface-dependent chemical property and accelerated the oxidation rate of copper with the enhancement factor of 10 000, confirmed by x-ray diffraction semi-quantitative analysis. This unexpected oxidation characteristic would make HF-treated silicon nanowires valuable for catalysis applications.
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