A Study of Al2O3Thin Films Etching Characteristics Using Inductively Coupled BCl3/Ar Plasma

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作者
Youngkeun Kim,Kwang‐Ho Kwon
出处
期刊:Journal of KIEEME [The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers]
卷期号:24 (6): 445-448
标识
DOI:10.4313/jkem.2011.24.6.445
摘要

In this study, the etching characteristics of $Al_2O_3$ thin films were investigated using an ICP (inductively coupled plasma) of $BCl_3$/Ar gas mixture. The etch rate of $Al_2O_3$ thin films as well as the $SiO_2/Al_2O_3$ etch selectivity were measured as functions of $BCl_3$/Ar mixing ratio (0~100% Ar) at a constant gas pressure (10 mTorr), total gas flow rate (40 sccm), input power (800 W) and bias power (100 W). The behavior of the $Al_2O_3$ etch rate was shown to be quite typical for ion-assisted etch processes with a dominant chemical etch pathway. To analyze the etching mechanism using DLP (double langmuir probe), OES (optical emission spectroscopy) and surface analysis using XPS (x-ray photoelectron spectroscopy) were carried out.

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