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作者
Georg Neubauer,Michael Salamon,Florian Roider,Norman Uhlmann,Peter J. Wellmann
出处
期刊:Materials Science Forum
日期:2013-01-25
卷期号:740-742: 27-30
被引量:2
标识
DOI:10.4028/www.scientific.net/msf.740-742.27
摘要
In this paper, we present for the first time an in-situ 3-D reconstruction of the SiC crystal growth interface using X-ray computed tomography (CT). We show that the shape of the growth interface can be determined with high precision at growth temperatures above 2100 °C in a conventional 3” PVT (physical vapor transport) growth system.
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