Understanding the contribution of hydroxyl to the energy band of a semiconductor: Bi2O(OH)2SO4vs. Bi6S2O15

半导体 半导体材料 材料科学 结晶学 物理 化学 原子物理学 光电子学
作者
Juan Xu,Fei Teng,Yunxuan Zhao,Yandong Kan,Liming Yang,Yang Yang,Wenqing Yao,Yongfa Zhu
出处
期刊:Dalton Transactions [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:45 (16): 6866-6877 被引量:13
标识
DOI:10.1039/c5dt04797h
摘要

It is still a big challenge to facilely tune the energy bands of a semiconductor. Herein, we have mainly investigated energy bands and photochemical properties of Bi6S2O15 and Bi2O(OH)2SO4, which have very similar layered structures. It is found that the hydroxyls have down shifted the conduction band (CB, 0.21 eV) and valence band (VB, 4.39 eV) of Bi2O(OH)2SO4, compared with those (CB = 0 eV; VB = 3.36 eV) of Bi6S2O15. Moreover, the main oxidative species of Bi6S2O5 and Bi2O(OH)2SO4 are holes (h(+)) and hydroxyl radicals (˙OH) for the degradation of rhodamine B (RhB) dye, respectively. This obvious difference has been mainly attributed to the hydroxyls, which have changed the energy band structure and the band gap. In addition, we have also investigated the morphology-dependent properties of Bi2O(OH)2SO4. Under ultraviolet light irradiation (λ ≤ 420 nm), Bi2O(OH)2SO4 microspheres show an activity 1.3 times and 2.2 times higher than the long flakes and straw sheaves for the degradation of (RhB), respectively. This study provides us a new idea that we can facilely tune the energy band of a semiconductor by introducing or removing hydroxyl or other anions.
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