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Atomic Layer Deposition of Boron Oxide as Dopant Source for Shallow Doping of Silicon

掺杂剂 兴奋剂 硼 材料科学 原子层沉积 硅 图层（电子） 沉积（地质） 光电子学 氧化物 氧化硼 氧化硅 纳米技术 冶金 化学 地质学 有机化学 古生物学 氮化硅 沉积物
作者
Bodo Kalkofen,Edmund P. Burte
出处
期刊：Meeting abstracts 日期：2010-02-05 卷期号：MA2010-01 (17): 943-943
链接
iop.orgdoi.org
标识
DOI：10.1149/ma2010-01/17/943
摘要
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