Design and simulation of AlN-based vertical Schottky barrier diodes*

肖特基势垒 材料科学 二极管 电场 功勋 击穿电压 肖特基二极管 电极 光电子学 图层(电子) 电压 电气工程 纳米技术 物理 量子力学 工程类
作者
Chun-Xu Su,Wei Wen,Fei Wuxiong,Wei Mao,Jiajie Chen,Weihang Zhang,Shenglei Zhao,Jincheng Zhang,Yue Hao
出处
期刊:Chinese Physics B [IOP Publishing]
卷期号:30 (6): 067305-067305
标识
DOI:10.1088/1674-1056/abe0c7
摘要

The key parameters of vertical AlN Schottky barrier diodes (SBDs) with variable drift layer thickness (DLT) and drift layer concentration (DLC) are investigated. The specific on-resistance ( R on,sp ) decreased to 0.5 mΩ ⋅ cm 2 and the breakdown voltage ( V BR ) decreased from 3.4 kV to 1.1 kV by changing the DLC from 10 15 cm −3 to 3 × 10 16 cm −3 . The V BR increases from 1.5 kV to 3.4 kV and the R on,sp also increases to 12.64 mΩ ⋅ cm 2 by increasing DLT from 4-μm to 11-μm. The V BR enhancement results from the increase of depletion region extension. The Baliga’s figure of merit (BFOM) of 3.8 GW/cm 2 was obtained in the structure of 11-μm DLT and 10 16 cm −3 DLC without FP. When DLT or DLC is variable, the consideration of the value of BFOM is essential. In this paper, we also present the vertical AlN SBD with a field plate (FP), which decreases the crowding of electric field in electrode edge. All the key parameters were optimized by simulating based on Silvaco-ATLAS.
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