Polishing of CVD Diamond Films in Vacuum

抛光 材料科学 机械加工 表面粗糙度 钻石 原子力显微镜 表面光洁度 冶金 化学机械平面化 复合材料 纳米技术
作者
Yongtao Ma,Yanmin Li,Zhanshu He
出处
期刊:Manufacturing Technology [Jan Evangelista Purkyne University in Usti nad Labem]
卷期号:15 (2): 177-183
标识
DOI:10.21062/ujep/x.2015/a/1213-2489/mt/15/2/177
摘要

An efficient polishing process has been carried out at the polishing speed about 200 mm/s in vacuum with temperature of 850˚C. With the polishing time reaches 120min, the surface roughness of polished could get to Ra0.016 compared to original Ra9.67. Mass loss rate per hour was used to quantify the polishing efficiency. Increasing the polishing pressure could get high mass loss rate, which could be used in the rough machining process. In fine machining process, the polishing pressure should be lower and the high polishing speed should be remained. The 3D morphology from atomic force microscope(AFM) shows there are some summits about 30-40nm in height, and the summits take into the shape of directional narrow cone.

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