Deep recombination centers in a-Si:H

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作者
D. K. Biegelsen,R. A. Street,W. Andrew Jackson,Richard L. Weisfield
出处
期刊:Journal of Non-crystalline Solids [Elsevier BV]
卷期号:66 (1-2): 139-144 被引量:8
标识
DOI:10.1016/0022-3093(84)90312-0
摘要

The nature of the deep recombination centers in a-Si:H is still a matter of considerable uncertainty. We present results here of transient ESR arising from dangling bonds in doped and undoped material at temperatures, defect levels and/or excitation energies for which direct band edge recombination is negligible. The efficiency for spin creation by sub- and near-band edge light is determined in the linear response regime in doped samples and is found to be of order unity. Thus, almost all recombination proceeds via a dangling bond, directly for sub-gap excitation or by a Shockley-Read mechanism for band edge excitation. The rate-limiting process for recombination is capture by neutral dangling bonds, D0, of electrons in undoped and n-type samples and of holes in p-type material.
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