Dislocations and Grain Size in Electrodeposited Nanocrystalline Ni Determined by the Modified Williamson–Hall and Warren–Averbach Procedures

纳米晶材料 位错 材料科学 粒度 凝聚态物理 衍射 透射电子显微镜 结晶学 各向异性 光学 化学 纳米技术 物理 复合材料
作者
T. Ungár,Ádám Révész,A. Borbély
出处
期刊:Journal of Applied Crystallography [International Union of Crystallography]
卷期号:31 (4): 554-558 被引量:125
标识
DOI:10.1107/s0021889897019559
摘要

Electrodeposited nanocrystalline Ni foils were studied by high-resolution X-ray diffractometry. The full width at half-maximum and Fourier coefficients were found to vary rather anisotropically as a function of diffraction order. The modified Williamson–Hall plot and the modified Warren–Averbach analysis, developed recently by taking into account the dislocation contrast in peak broadening, have been applied to interpret this anisotropic behaviour in terms of grain size, dislocation densities and twin boundaries. The average grain size has been found to range between 50 and 12 nm, in good agreement with transmission electron microscopy observations. The average dislocation density has been found to be 4.9 (5) × 1015 m−2 and the dislocations are of the screw character.
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