Deposition durability of e-beam mask repair

耐久性 沉积(地质) 降级(电信) 梁(结构) 材料科学 计算机科学 法律工程学 复合材料 结构工程 工程类 电信 地质学 沉积物 古生物学
作者
Thorsten Krome,Christian Holfeld,Tim Göhler,Pavel Nesládek
标识
DOI:10.1117/12.2323905
摘要

The durability of deposition repairs of two different e-beam mask repair tools has been examined and compared in this work. To obtain this data, clear defects on production masks have been repaired with both tools. In between these repairs the mask was used for production and gathered exposure dose accordingly. The increase of transmission and hence the degradation of the deposition has been determined by AIMSTM. We could confirm that one tool/process shows better stability of the depositions than the other.
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