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Effect of indium doping level on certain physical properties of CdS films deposited using an improved SILAR technique

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作者
K. Ravichandran,V. Senthamilselvi
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier]
卷期号:270: 439-444 被引量:23
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2013.01.045
摘要

The influence of indium (In) doping levels (0, 2, …, 8 at.%) on certain physical properties of cadmium sulphide (CdS) thin films deposited using an improved successive ionic layer adsorption and reaction (ISILAR) method has been studied. In this improved SILAR technique, a fresh anionic solution was introduced after a particular number of dipping cycles in order to achieve good stoichiometry. All the deposited films exhibited cubic phase with (1 1 1) plane as preferential orientation. The calculated crystallite size values are found to be decreased from 54.80 nm to 23.65 nm with the increase in In doping level. The optical study confirmed the good transparency (80%) of the film. A most compact and pinhole free smooth surface was observed for the CdS films with 8 at.% of In doping level. The perceived photoluminescence (PL) bands endorsed the lesser defect crystalline nature of the obtained CdS:In films. The chemical composition analysis (EDAX) showed the near stoichiometric nature of this ISILAR deposited CdS:In films.
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