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作者
Josef Hansson,Torbjörn Nilsson,Lilei Ye,Johan Liu
标识
DOI:10.1080/09506608.2017.1301014
摘要
The trend of continuing miniaturisation of microelectronics leads to new thermal management challenges. A key point in the heat removal process development is to improve the heat conduction across interfaces through improved thermal interface materials (TIMs). We identify the key areas for state-of-the art TIM research and investigate the current state of the field together with possible future advances.
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