van der Waals Self-Epitaxial Growth of Inch-Sized Superconducting Niobium Diselenide Films

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作者
Liang Ma,Xiaohan Wang,Hao Wang,Xiangyi Wang,Guifu Zou,Yanqiu Guan,Shuya Guo,Haochen Li,Qi Chen,Lin Kang,Labao Zhang,Peiheng Wu
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:23 (15): 6892-6899
标识
DOI:10.1021/acs.nanolett.3c01283
摘要

Ultrathin superconducting films are the basis of superconductor devices. van der Waals (vdW) NbSe2 with noncentrosymmetry exhibits exotic superconductivity and shows promise in superconductor electronic devices. However, the growth of inch-scale NbSe2 films with layer regulation remains a challenge because vdW structural material growth is strongly dependent on the epitaxial guidance of the substrate. Herein, a vdW self-epitaxy strategy is developed to eliminate the substrate driving force in film growth and realize inch-sized NbSe2 film growth with thicknesses from 2.1 to 12.1 nm on arbitrary substrates. The superconducting transition temperature of 5.1 K and superconducting transition width of 0.30 K prove the top homogeneity and quality of superconductivity among all of the synthetic NbSe2 films. Coupled with a large area and substrate compatibility, this work paves the way for developing NbSe2 superconductor electronics.
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