Zone plate-based extreme ultraviolet mask microscope with through-pellicle imaging capability

极端紫外线 光学 显微镜 材料科学 显微镜 紫外线 物理 激光器
作者
Markus P. Benk,Dmytro Zaytsev,C. Orman,Brandon Vollmer,Daniel Rodrigues dos Santos,Jeffrey F. Gamsby,Jeremy Mentz,F. Salmassi,Arnaud Allézy,Senajith Rekawa,Ryan Miyakawa,Weilun Chao,Eric M. Gullikson,Scott Chegwidden,Guojing Zhang,Patrick Naulleau,Bruno La Fontaine
出处
期刊:Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology [SPIE - International Society for Optical Engineering]
卷期号:23 (04)
标识
DOI:10.1117/1.jmm.23.4.041404
摘要

Mirror-based and zone plate-based imaging systems are being used in actinic extreme ultraviolet (EUV) reticle review tools. With regard to zone plates, a short working distance is advantageous in terms of the required spectral bandwidth, manufacturability, and potential throughput and imaging performance. Zone plates therefore typically have a short working distance. The industry has adopted the use of an EUV pellicle to protect the photomask. Imaging photomask through-pellicle requires a working distance larger than 2.5 mm. A zone-plate-based EUV mask microscope with a 3-mm working distance has been commissioned at beamline 11.3.2 of the Advanced Light Source. Through-pellicle imaging at an exposure time of 2 s is demonstrated. The instrument achieves an image contrast of 95% on large features on a photomask with a tantalum-based absorber. Imaging down to 45-nm half pitch (mask scale) is demonstrated. A NILS of 2.55 is achieved on 60-nm half-pitch (mask scale) lines and spaces. These results demonstrate that zone-plate-based imaging systems can meet the requirements of an actinic EUV mask review tool in terms of imaging performance and throughput in an instrument compatible with EUV pellicles.
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