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N-Doping of plasma exfoliated graphene oxide via dielectric barrier discharge plasma treatment for the oxygen reduction reaction

石墨烯 氧化物 介质阻挡放电 材料科学 兴奋剂 氧气 等离子体 电介质 化学 纳米技术 光电子学 有机化学 物理 量子力学 冶金
作者
Yiqing Wang,Feng Yu,Mingyuan Zhu,Cunhua Ma,Dan Zhao,Mengjuan Zhang,Amin Zhou,Bin Dai,Junyi Ji,Xuhong Guo
出处
期刊：Journal of materials chemistry. A, Materials for energy and sustainability [The Royal Society of Chemistry]
日期：2017-11-14 卷期号：6 (5): 2011-2017 被引量：103
标识
DOI：10.1039/c7ta08607e
摘要
N-doped plasma exfoliated graphene oxide was effectively fabricated via dielectric barrier discharge plasma treatment for the oxygen reduction reaction.
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