The two components of the crystallographic transition in VO2

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作者
John B. Goodenough
出处
期刊:Journal of Solid State Chemistry [Elsevier]
卷期号:3 (4): 490-500 被引量:1263
标识
DOI:10.1016/0022-4596(71)90091-0
摘要

Two distinguishable mechanisms of the monoclinic-to-tetragonal transition in VO2 are identified: an antiferroelectric-to-paraelectric transition at a temperature Tt as well as a change from homopolar to metallic VV bonding at a temperature Tt′. In pure VO2 at atmospheric pressure, the two transitions occur at the same temperature, Tt′ = Tt = 340°K. However, a Tt′ < Tt may be induced by atomic substitutions; and in the intermediate temperature range the structure is orthorhombic, the antiferroelectric distortions being somewhat different in the absence of homopolar VV bonding. From energy-band considerations, the semiconductor-to-metal transition is to be associated with the transition at Tt; but below Tt′ the semiconducting energy gap should be larger and the charge-carrier mobilities should be smaller. The existence of two transition temperatures in doped VO2 is distinguished from the claim of two transition temperatures in the Magnéli phases VnO2n−1. In this latter case, the appearance of two transitions reflects a two-phase region consisting of two adjoining Magnéli phases.
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