The effect of nitrogen content on the structure and mechanical properties of TiN films produced by magnetron sputtering

材料科学 氮化钛 氮气 溅射沉积 压痕硬度 溅射 氮化物 晶格常数 腔磁控管 复合材料 冶金 薄膜 衍射 图层(电子) 化学 纳米技术 微观结构 光学 有机化学 物理
作者
R.D. Arnell,J.S. Colligon,KF Minnebaev,VE Yurasova
出处
期刊:Vacuum [Elsevier]
卷期号:47 (5): 425-431 被引量:42
标识
DOI:10.1016/0042-207x(95)00241-3
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