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In situ study of the electronic structure of atomic layer deposited oxide ultrathin films upon oxygen adsorption using ambient pressure XPS

X射线光电子能谱 吸附 原位 图层（电子） 催化作用 氧化物 氧气 材料科学 原子氧 化学工程 环境压力 无机化学 化学 纳米技术 物理化学 冶金 有机化学 工程类 物理 热力学
作者
Baohua Mao,Ethan J. Crumlin,Eric C. Tyo,Michael J. Pellin,Štefan Vajda,Yimin Li,Sui‐Dong Wang,Zhi Liu
出处
期刊：Catalysis Science & Technology [The Royal Society of Chemistry]
日期：2016-01-01 卷期号：6 (18): 6778-6783 被引量：19
链接
osti.gov osti.gov escholarship.org escholarship.orgdoi.org
标识
DOI：10.1039/c6cy00575f
摘要
APXPS was used to investigate the effect of oxygen adsorption on the band bending and electron affinity of ALD Al2O3, ZnO and TiO2 ultrathin films.
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