Key factors affecting contact resistance in coplanar organic thin-film transistors

接触电阻 晶体管 材料科学 有机半导体 光电子学 半导体 电极 薄膜晶体管 场效应晶体管 电子迁移率 电气工程 纳米技术 电压 化学 工程类 图层(电子) 物理化学
作者
Sun-Woo Jo,Seongjae Cho,Chang‐Hyun Kim
出处
期刊:Journal of Physics D [Institute of Physics]
卷期号:55 (40): 405101-405101 被引量:8
标识
DOI:10.1088/1361-6463/ac8124
摘要

Abstract We present a comprehensive numerical analysis of contact resistance in coplanar organic thin-film transistors. A large number of hole-transporting organic transistors are investigated through two-dimensional finite-element simulation, by deliberately changing the channel length, source/drain electrode thickness, and hole-injection energy barrier heights. Gate-field-dependent terminal contact resistances of these devices are fully estimated and electrostatic distributions inside the organic semiconductor film are visualized for the understanding of physical mechanisms. It is found that the relationship between source/drain electrode thickness and contact resistance does not follow any simple trend and is also strongly associated with the injection energy barrier. Moreover, the origin of negative contact resistance in organic transistors featuring a minimal charge-injection barrier is elaborated. Finally, a direct impact of the semiconductor charge-carrier mobility on contact resistance is addressed, revealing a linear dependence of contact resistance on inverse mobility over a broad parameter range.

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