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A van der Waals Ferroelectric Tunnel Junction for Ultrahigh‐Temperature Operation Memory

范德瓦尔斯力 铁电性 材料科学 居里温度 凝聚态物理 工作(物理) 热稳定性 结温 光电子学 工程物理 缩放比例 热的 纳米技术 热力学 物理 铁磁性 量子力学 数学 分子 电介质 几何学
作者
Wei Tang,Xiankun Zhang,Huihui Yu,Gao Li,Qinghua Zhang,Xinlei Wei,Mengyu Hong,Lin Gu,Qingliang Liao,Zhuo Kang,Zheng Zhang,Yue Zhang
出处
期刊:Small methods [Wiley]
卷期号:6 (4) 被引量:28
标识
DOI:10.1002/smtd.202101583
摘要

Facing the constant scaling down and thus increasingly severe self-heating effect, developing ultrathin and heat-insensitive ferroelectric devices is essential for future electronics. However, conventional ultrathin ferroelectrics and most 2D ferroelectric materials (2DFMs) are not suitable for high-temperature operation due to their low Curie temperature. Here, by using few-layer α-In2 Se3 , a special 2DFM with high Curie temperature, van der Waals (vdW) ferroelectric tunnel junction (FTJ) memories that deliver outstanding and reliable performance at both room and high temperatures are constructed. The vdW FTJs offer a large on/off ratio of 104 at room temperature and still reveal excellent on/off ratio at an ultrahigh temperature of 470 K, which will fail down other 2DFMs. Moreover, long retention and reliable cyclic endurance at high temperature are achieved, showing robust thermal stability of the vdW FTJ memory. The observations of this work demonstrate an exciting promise of α-In2 Se3 for reliable service in high temperature either from self-heating or harsh environments.
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