等离子体增强化学气相沉积
硅
材料科学
钝化
晶体硅
光电子学
纳米技术
图层(电子)
作者
T. Tachibana,Katsuhiko Shirasawa,Y. Yuasa,Norikazu Itou,Toshiharu Yamashita,Kazuhide Fukuchi,Yuta Irie,Hiroaki Takahashi,Kouichirou Niira,Katsuto Tanahashi
标识
DOI:10.1016/j.solmat.2024.113339
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI