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作者
Andrea Bracesco,Joost van Himste,W. M. M. Kessels,Valerio Zardetto,Mariadriana Creatore
标识
DOI:10.1021/acsami.4c09630
摘要
In recent years, atomic layer deposition (ALD) has established itself as the state-of-the-art technique for the deposition of SnO
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