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Epitaxial integration of BaTiO3 on Si for electro-optic applications

铁电性 材料科学 光电子学 波克尔效应 外延 极化(电化学) 光子学 蓝宝石 光学 纳米技术 激光器 电介质 化学 物理 物理化学 图层(电子)
作者
Wei Guo,Agham Posadas,Alexander A. Demkov
出处
期刊:Journal of vacuum science & technology [American Vacuum Society]
卷期号:39 (3) 被引量:32
标识
DOI:10.1116/6.0000923
摘要

BaTiO3 (BTO) is a highly promising material for the fabrication of electro-optic (EO) modulators due to the large effective Pockels coefficient of the material, particularly in an epitaxial form. It also has the added benefit of being readily integrated on a Si material platform via a SrTiO3 template. These two characteristics make epitaxial BTO ideal for use in next generation silicon photonics applications. Being a ferroelectric, BTO has a unique crystallographic direction in which the ferroelectric polarization points. For EO modulators, because the polarization direction controls the coupling between light and an external electric field, it is important to understand how different growth methods and subsequent processing affect the direction of the ferroelectric polarization. Certain electro-optic devices may require polarization to be in the plane of the film (in-plane switching liquid crystal devices), while other applications may require it to be normal to the plane of the film (Mach–Zehnder modulator). Here, we review the growth of epitaxial BTO on Si by a variety of deposition methods including molecular beam epitaxy, pulsed laser deposition, and RF sputtering. We summarize the resulting BTO film structure and quality based on the reported characterization results. We also discuss EO measurements of basic devices made from this material platform where such data are available.
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