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Two-dimensional ferroelectric semiconductor floating-gate transistor with light-tunable field effect for memory and photo-synapse

铁电性 晶体管 场效应晶体管 材料科学 光电子学 半导体 突触 电气工程 工程类 心理学 电压 神经科学 电介质
作者
Yurong Jiang,Rui Wang,Yuting Peng,Liang Li,Xueping Li,Yiduo Shao,Xiaobing Yan,Liangzhi Kou,Congxin Xia
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:125 (10)
标识
DOI:10.1063/5.0197542
摘要

Ferroelectric field effect transistors (Fe-FETs) offer promising candidates for neuromorphic computing. However, it is still challenging to achieve a light-tunable field effect, which limits the function of photo-synapse. In this work, a ferroelectric semiconductor floating-gate transistor (FSF-FET) is proposed based on MoS2/h-BN/α-In2Se3 van der Waals heterojunctions (vdWHs), in which the two-dimensional ferroelectric semiconducting α-In2Se3 and dielectric h-BN serve as the trapped layer of charges and prevent layer, respectively. The excellent memory performances are exhibited, including a high programming/erasing ratio of over 107, a large memory window ratio of 74.69%, and good non-volatility. Moreover, the FSF-FETs also possess the light-tunable synapse behaviors, including the high paired-pulse facilitation of 236% and an obvious transition from short-term plasticity to long-term plasticity. The high recognition rate of 93.9% is achieved with dual-mode modulation of light and electrical pulses. The ferroelectric semiconductor floating-gate design opens up a strategy to realize the light-tunable field effect of Fe-FETs for photo-synapse.
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