Spectroscopic Investigation of Plasma-Fluorinated Monolayer Graphene and Application for Gas Sensing

材料科学 石墨烯 单层 等离子体 纳米技术 化学工程 量子力学 物理 工程类
作者
Hui Zhang,Liwei Fan,Huilong Dong,Pingping Zhang,Kaiqi Nie,Jun Zhong,Youyong Li,Jinghua Guo,Xuhui Sun
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:8 (13): 8652-8661 被引量:87
标识
DOI:10.1021/acsami.5b11872
摘要

Large-area monolayer fluorinated graphene (FG) is synthesized by a controllable SF6 plasma treatment. The functional groups of FG are elucidated by various spectroscopies, including Raman spectroscopy, X-ray photoemission spectroscopy (XPS), and near edge X-ray absorption fine structure (NEXAFS) spectroscopy. Raman results suggest that the defects are introduced into the monolayer graphene during the fluorination process. The fluorine content can be varied by the plasma treatment and can reach the maximum (∼24.6 atom % F) under 20 s of plasma treatment as examined by XPS measurement. The angle-dependent NEXAFS results reveal that the fluorine atoms interact with the graphene matrix to form covalent C-F bonds, which are perpendicular to the basal plane of FG. FG is applied as a gas-sensing material and owns much better performance for ammonia detection compared to pristine graphene. On the basis of our density functional theory simulation results, the fast response/recovery behavior and high sensitivity of the FG gas sensor are attributed to enhanced physical absorption due to the C-F covalent bonds on the surface of FG.
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