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Transparent, conductive CuI films prepared by rf-dc coupled magnetron sputtering

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作者
Takeshi Tanaka,Keishi KAWABATA,Masataka Hirose
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier]
卷期号:281-282: 179-181 被引量:92
标识
DOI:10.1016/0040-6090(96)08607-5
摘要

Optically transparent, conducting Cul films have been prepared by a magnetron sputtering technique which employs rf and dc target biases. It is shown that the stoichiometric Cul films are obtained at the target bias VT= −200 V, while the lowest resistivity of 5.4 × 10 −2Ω cm and the best optical transmittance of about 70% over the wavelength range 500 to 1000 nm are obtained at VT= −50 V where the I/Cu
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