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Scaling behavior and structure transition of ZrO2 films deposited by RF magnetron sputtering

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作者
H.H. Zhang,Chunyu Ma,Qingyu Zhang
出处
期刊:Vacuum [Elsevier]
卷期号:83 (11): 1311-1316 被引量:39
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2009.04.041

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