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Multinuclear Tin-Based Macrocyclic Organometallic Resist for EUV Photolithography

极紫外光刻 抵抗 锡 光刻 材料科学 第2组金属有机化学 平版印刷术 纳米技术 化学 光电子学 有机化学 冶金 分子 图层（电子）
作者
Gayoung Lim,Kangsik Lee,Chawon Koh,Tsunehiro Nishi,Hyo Jae Yoon
出处
期刊：ACS Materials Science Au [American Chemical Society]
日期：2024-03-27 卷期号：4 (5): 468-478 被引量：9
链接
acs.org acs.org nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1021/acsmaterialsau.4c00010
摘要
We report a new photoresist based on a multinuclear tin-based macrocyclic complex and its performance for extreme UV (EUV) photolithography. The new photoresist has a trinuclear macrocyclic structure containing three salicylhydroxamic acid ligands and six Sn-CH
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