Experimental and Modeling Investigation of the Temperature Activation of TDDB in Galvanic Isolators Based on Polymeric Dielectrics

材料科学 电流隔离 电介质 原电池 电偶腐蚀 随时间变化的栅氧化层击穿 电子工程 光电子学 介电强度 电气工程 复合材料 工程类 腐蚀 冶金 电压 晶体管 栅极电介质 变压器
作者
J. L. Mazzola,M. Greatti,Christian Monzio Compagnoni,Alessandro S. Spinelli,D. Paci,F. Speroni,Vincenzo Marano,M. Lauria,Gerardo Malavena
出处
期刊:IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:31 (5): 2580-2586 被引量:1
标识
DOI:10.1109/tdei.2024.3403528
摘要

We report experimental evidence revealing a nonmonotonic temperature dependence of Time-Dependent Dielectric Breakdown (TDDB) in galvanic isolators based on polymeric dielectrics. In particular, the lifetime of the device under TDDB stress decreases when temperature rises from room temperature to 100°C and then steeply increases above the latter temperature. This effect, which introduces a turnaround in the Arrhenius plot of device lifetime, is explained as a result of two competing processes leading to the strengthening and weakening of polymeric chains in the dielectric material, respectively. The proposed physical picture is further supported by a simple numerical model that allows to investigate the temperature dependence of TDDB in galvanic isolators based on polymeric dielectrics under various working conditions.

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