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Nonvolatile Control of Valley Polarized Emission in 2D WSe2-AlScN Heterostructures

异质结 材料科学 光电子学 纳米技术
作者
Simrjit Singh,Kwan‐Ho Kim,Kiyoung Jo,Pariasadat Musavigharavi,Bumho Kim,Jeffrey Zheng,Nicholas Trainor,Chen Chen,Joan M. Redwing,Eric A. Stach,Roy H. Olsson,Deep Jariwala
出处
期刊:ACS Nano [American Chemical Society]
卷期号:18 (27): 17958-17968 被引量:1
标识
DOI:10.1021/acsnano.4c04684
摘要

Achieving robust and electrically controlled valley polarization in monolayer transition metal dichalcogenides (ML-TMDs) is a frontier challenge for realistic valleytronic applications. Theoretical investigations show that the integration of 2D materials with ferroelectrics is a promising strategy; however, an experimental demonstration has remained elusive. Here, we fabricate ferroelectric field-effect transistors using a ML-WSe2 channel and an Al0.68Sc0.32N (AlScN) ferroelectric dielectric and experimentally demonstrate efficient tuning as well as non-volatile control of valley polarization. We measure a large array of transistors and obtain a maximum valley polarization of ∼27% at 80 K with stable retention up to 5400 s. The enhancement in the valley polarization is ascribed to the efficient exciton-to-trion (X-T) conversion and its coupling with an out-of-plane electric field, viz., the quantum-confined Stark effect. This changes the valley depolarization pathway from strong exchange interactions to slow spin-flip intervalley scattering. Our research demonstrates a promising approach for achieving non-volatile control over valley polarization for practical valleytronic device applications.
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