Modulation Doping of Single-Layer Semiconductors for Improved Contact at Metal Interfaces

兴奋剂 材料科学 肖特基势垒 接触电阻 半导体 图层(电子) 光电子学 费米能级 小型化 纳米技术 物理 二极管 量子力学 电子
作者
Yeonchoo Cho,Gabriel R. Schleder,Daniel T. Larson,Elise Brutschea,Kyung‐Eun Byun,Hongkun Park,Philip Kim,Efthimios Kaxiras
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:22 (23): 9700-9706 被引量:10
标识
DOI:10.1021/acs.nanolett.2c04011
摘要

Single layers of two-dimensional (2D) materials hold the promise for further miniaturization of semiconductor electronic devices. However, the metal-semiconductor contact resistance limits device performance. To mitigate this problem, we propose modulation doping, specifically a doping layer placed on the opposite side of a metal-semiconductor interface. Using first-principles calculations to obtain the band alignment, we show that the Schottky barrier height and, consequently, the contact resistance at the metal-semiconductor interface can be reduced by modulation doping. We demonstrate the feasibility of this approach for a single-layer tungsten diselenide (WSe2) channel and 2D MXene modulation doping layers, interfaced with several different metal contacts. Our results indicate that the Fermi level of the metal can be shifted across the entire band gap. This approach can be straight-forwardly generalized for other 2D semiconductors and a wide variety of doping layers.
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