The Effect of Ne+ Ion Implantation on the Crystal, Magnetic, and Domain Structures of Yttrium Iron Garnet Films

材料科学 离子注入 钇铁石榴石 离子 钆镓石榴石 微观结构 磁矩 磁畴 Crystal(编程语言) 核磁共振 磁化 凝聚态物理 外延 化学 纳米技术 磁场 冶金 图层(电子) 物理 有机化学 程序设计语言 量子力学 计算机科学 氧化物
作者
Igor Fodchuk,Andrij Kotsyubynsky,Andrii Velychkovych,Ivan Hutsuliak,Volodymyra Boychuk,Volodymyr Kotsyubynsky,Liubomyr Ropyak
出处
期刊:Crystals [MDPI AG]
卷期号:12 (10): 1485-1485
标识
DOI:10.3390/cryst12101485
摘要

The mechanism of the influence of crystal inhomogeneities on the magnetic and domain microstructures of functional materials based on yttrium iron garnet heterostructures is an important subject of investigation due to the aim to predict parameters for manufacturingpurposes. A study of the structural and magnetic characteristics of a set of yttrium iron garnet films grown on gadolinium–gallium garnet substrate is presented. High-resolution X-ray diffractometry, Mössbauer spectroscopy, MFM, as well as ion implantation simulation and X-ray diffraction simulation were used together to determine the features of the effect of Ne+ ion implantation with different dose rates on the samples. The simulation of ion implantation with E = 82 keV showed energy loss profiles of Ne ions with subsequent defect formation up to amorphization of near-surface layers at high doses. Implantation creates two magnetically non-equivalent types of tetrahedrally located Fe3+ ions, which leads to a rotation of the total magnetic moment relative to the film surface and a change in the width of the magnetic domain stripes.
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