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作者
Mudasser Husain,Nasir Rahman,Jing Lü
出处
期刊:Nanoscale
[Royal Society of Chemistry]
日期:2025-01-01
摘要
This study examines quantum transport in monolayer β-AgI MOSFETs (sub-1 nm gate) using DFT + NEGF. The stable β-AgI monolayer, with a 2.18 eV bandgap, reduces leakage. Simulations confirm its potential for low-power nanoelectronics, meeting ITRS-2013.
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