X射线光电子能谱
激进的
氟
分析化学(期刊)
化学
蚀刻(微加工)
反应离子刻蚀
图层(电子)
材料科学
化学工程
有机化学
工程类
作者
Yewon Kim,Okhyeon Kim,G. S. Cho,Hye-Lee Kim,Min Su Kim,Byungchul Cho,Sangjoon Park,Jongwan Jung,Won‐Jun Lee
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2023.158453
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI