Study on optimization of a NiP layer polishing process on magnetorheological finishing for metal substrate

抛光 材料科学 图层(电子) 基质(水族馆) 过程(计算) 磁流变液 金属 化学机械平面化 冶金 复合材料 计算机科学 工程类 结构工程 海洋学 阻尼器 地质学 操作系统
作者
Qilin Yang,Xiaoqiang Peng,Hao Hu
标识
DOI:10.1117/12.2604879
摘要

Due to Metal mirror's low hardness, we coat a layer of nickel-phosphorus (NiP) layer on the surface and then polish NiP layer simpler through various methods. However, when using CeO2 slurry in Magnetorheological Finishing(MRF), the NiP layer will appear "wise-tail" phenomenon. Based on the "double-edged circle" model, we analyze the shear force of the contact surface and optimize the polishing abrasive particles such as SiO2. In this way, we could obtain a surface without "wise-tail" and the surface roughness reaches 1.897 nm in Ra. By orthogonal experiments, we optimize the process parametersts and certify the stability and linearity of the removal function.The experiment results prove that the MRF fluid compounded with SiO2 could satisfy the requirements of NiP layer in magnetorheological machining.
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