Generalized analysis of bifacial solar cell design: Effective modelling using PC1D

薄脆饼 共发射极 光电子学 材料科学 电阻式触摸屏 薄板电阻 太阳能电池 等效串联电阻 电气工程 纳米技术 工程类 电压 图层(电子)
作者
Bo-Kyung Hong,Manuel Funes,David Fuertes Marrón,Carlos del Cañizo
出处
期刊:Nucleation and Atmospheric Aerosols 卷期号:2487: 040002-040002
标识
DOI:10.1063/5.0089258
摘要

Diffused bifacial silicon-based solar cells are one of the most promising PV technologies in the immediate future. A numerical analysis of critical parameters involved in bifacial devices by PC1D software is presented. n+pp+ and p+nn+ structures of surface-passivated bifacial devices are considered. Bifaciality is recognized as an important factor of device performance. The emitter profiles and grid design are co-optimized considering resistive and recombination losses. It is found that emitter profiles can be varied in the range of 60-120 Ω/□ of sheet resistance, to obtain high efficiencies. In addition, it is observed that the rear irradiation does not have a significant influence on the grid design. For a given bulk lifetime, reducing the wafer thickness results in a higher bifaciality. We also observe that p-type wafers can achieve a higher bifaciality than n-type counterparts. However, at high bulk lifetimes, the wafer type has a negligible influence. Finally, a detailed analysis of resistive losses and recombination is carried out, whereby the emitters are identified as primary contributors.
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