Verification of Fowler–Nordheim electron tunneling mechanism in Ni/SiO 2 / n -4H SiC and n + poly-Si/SiO 2 / n -4H SiC MOS devices by different models

量子隧道 半导体 凝聚态物理 材料科学 电子 电场 费米能级 场电子发射 空隙(复合材料) 半导体器件 纳米技术 光电子学 图层(电子) 物理 复合材料 量子力学
作者
Subba Ramaiah Kodigala
出处
期刊:Physica B-condensed Matter [Elsevier BV]
卷期号:500: 35-43 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.physb.2016.07.013
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