原子层沉积
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作者
K. D. Kim,Min Hyuk Park,Hong-jip Kim,Y. J. Kim,Taeho Moon,Y. H. Lee,Seung Dam Hyun,Taehong Gwon,Cheol Seong Hwang
摘要
The evolution of ferroelectricity in undoped-HfO2 thin films is systematically studied by controlling the deposition temperature during atomic layer deposition.
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