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Design optimization of GaAs betavoltaic batteries

光电子学 耗尽区 开路电压 p-n结 材料科学 电池(电) 图层(电子) 扩散 砷化镓 电压 电流密度 短路 半导体 电气工程 功率(物理) 纳米技术 物理 工程类 热力学 量子力学
作者
Haiyanag Chen,Lan Jiang,Xuyuan Chen
出处
期刊:Journal of Physics D [Institute of Physics]
卷期号:44 (21): 215303-215303 被引量:46
标识
DOI:10.1088/0022-3727/44/21/215303
摘要

GaAs junctions are designed and fabricated for betavoltaic batteries. The design is optimized according to the characteristics of GaAs interface states and the diffusion length in the depletion region of GaAs carriers. Under an illumination of 10 mCi cm −2 63 Ni, the open circuit voltage of the optimized batteries is about ∼0.3 V. It is found that the GaAs interface states induce depletion layers on P-type GaAs surfaces. The depletion layer along the P + PN + junction edge isolates the perimeter surface from the bulk junction, which tends to significantly reduce the battery dark current and leads to a high open circuit voltage. The short circuit current density of the optimized junction is about 28 nA cm −2 , which indicates a carrier diffusion length of less than 1 µm. The overall results show that multi-layer P + PN + junctions are the preferred structures for GaAs betavoltaic battery design.
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