Cleavage energies in semiconductors

劈理(地质) 半导体 碲化镉光电 半导体材料 化学 结合能 原子物理学 材料科学 物理 纳米技术 光电子学 断裂(地质) 复合材料
作者
M. A. Berding,S. Krishnamurthy,A. Sher,A.-B. Chen
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:67 (10): 6175-6178 被引量:23
标识
DOI:10.1063/1.345181
摘要

We present a method for the calculation of the surface and cleavage energies, Eγ, for semiconductors, based on a tight-binding Green’s function approach and a difference-equation solution for the layered structure. Energies are calculated for a representative group of semiconductors, and cleavage energies are found to agree well with the available experimental data. We find ESiγ(111)=1360 ergs/cm2, and Eγ(110)=1000, 180, and 120 ergs/cm2 for GaAs, CdTe, and HgTe, respectively.

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