Changes in the structure properties and CMP manufacturability of a poly-Si film induced by deposition and annealing processes

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作者
Sung‐Min Park,Haedo Jeong,Sang‐Hee Yoon
出处
期刊:Journal of Materials Processing Technology [Elsevier]
卷期号:234: 125-130 被引量:8
标识
DOI:10.1016/j.jmatprotec.2016.03.015
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