Electronic and superconducting properties of CoSi2 films on silicon — An unconventional superconductor with technological potential

超导电性 材料科学 异质结 凝聚态物理 配对 光电子学 物理
作者
Shao-Pin Chiu,C. Y. Wang,Yi-Chun Lin,Shun-Tast Tu,Shouray Kumar Sahu,Ruey-Tay Wang,C. Y. Wu,Sheng-Shiuan Yeh,Stefan Kirchner,Juhn‐Jong Lin
出处
期刊:Chinese Journal of Physics [Elsevier]
卷期号:90: 348-363 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.cjph.2024.04.018
摘要

We report observations of unusual normal-state electronic conduction properties and superconducting characteristics of high-quality CoSi2/Si films grown on silicon Si(100) and Si(111) substrates.A good understanding of these features shall help to address the underlying physics of the unconventional pairing symmetry recently observed in transparent CoSi2/TiSi2 heterojunctions [S.P. Chiu et al., Sci.Adv. 7, eabg6569 (2021); Nanoscale 15, 9179 (2023)], where CoSi2/Si is a superconductor with a superconducting transition temperature Tc ≃ (1.1-1.5)K, dependent on its dimensions, and TiSi2 is a normal metal.In CoSi2/Si films, we find a pronounced positive magnetoresistance caused by the weak-antilocalization effect, indicating a strong Rashba spin-orbit coupling (SOC).This SOC generates two-component superconductivity in CoSi2/TiSi2 heterojunctions.The CoSi2/Si films are stable under ambient conditions and have ultralow 1/f noise.Moreover, they can be patterned via the standard lithography techniques, which might be of considerable practical value for future scalable superconducting and quantum device fabrication.
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